CVD 表示化学蒸气沉淀法,这是在实验室制造钻石的另一种方法。这种钻石是采用人工方法模拟天然钻石结晶特点生成并制造的钻石,它的生长需要在真空室内对烃类混合气体施加适当的压力和温度。CVD培育钻石是在每一个方面上真切意义的钻石,其化学、物理、原子、光及所有特性与天然钻石相同。

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什么是化学蒸气沉淀 (CVD) 钻石?
CVD 表示化学蒸气沉淀法,这是在实验室制造钻石的另一种方法。这种钻石是采用人工方法模拟天然钻石结晶特点生成并制造的钻石,它的生长需要在真空室内对烃类混合气体施加适当的压力和温度。CVD培育钻石是在每一个方面上真切意义的钻石,其化学、物理、原子、光及所有特性与天然钻石相同。
CVD 钻石的生长过程
1、将钻石晶种置于钻石生长室中。
2、生长室中注入含碳气体。
3、将生长室加热至 900-1200°C。
4、微波束让碳从等离子云中落下,沉积在晶种上。
5、每隔几天会取出其中钻石,打磨钻石顶部表面,移除其上的非钻石碳元素,然后再放回生长室。每批钻石可能需要经历几次开始/停止循环,整个生长过程需要三到四周
6、取出合成钻石晶体后,这些晶体就可以进行切磨,制成产品。
详细说来,HPHT 钻石是在一个小舱室里生长的,这个小舱室位于可以产生很 高压力的装置内。舱室内的碳原料(如石墨)熔解在铁(Fe)、镍(Ni)、钴 (Co) 等元素组成的金属助溶剂中,从而降低钻石生长所需的温度和压力。然后,碳材料借助助溶剂向温度较低的钻石晶种移动,并在其上结晶,形成合成钻石晶体。结晶过程需要数天至数周时间,以形成一个或多个晶体。
详细来说,CVD 钻石是在充满碳氢混合气体(如甲烷)的真空室内生长的。能量源(如微波束)分解气体分子,碳原子向下吸附到温度更低的扁平钻石排种盘中。结晶过程需要数周时间,多个晶体同时生长。确切的数量取决于真空室的尺寸和排种盘的数量。这种板状晶体通常会形成需要切除的黑色石墨粗糙边缘。它们还会呈现褐色,这种颜色在进行宝石刻面步骤前,可通过热处理去除。
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